在液晶显示器的生产过程中，需要在导电玻璃的导电层上制成所要求的电极图形，这个过程目前都是用光刻技术来完成的。光刻中要用到具有特定图形的光刻掩模版。光刻掩模版分铬板和胶片两种，常用的软件胶片掩模版，通常称为菲林，习惯上又叫做掩膜。由于使用正性胶故设计成正版图，通过制版方法在胶片上制成与电极图形对应的黑白图案，黑色区域能遮挡光，而透明区域能让光通过，它类似平常所见的黑白照相底片。

    LCD液晶屏生产工艺中几个比较重要的工序分为光刻，PI涂覆，摩擦，丝印成盒等几个工序。光刻工序是在ITO玻璃上刻出电极图形，其中曝光中所用的掩模版（称为菲林版）需要设计，因为LCD盒由上，下两层基板组成，所以有上基板光刻掩模版和下基板光刻掩膜版。